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SiGe/Si STRAINED LAYER 초격자 제작 및 특성평가 기술개발
SiGe/Si STRAINED LAYER 초격자 제작 및 특성평가 기술개발 / 임재영 ; 한국표준과학연구원
SiGe/Si STRAINED LAYER 초격자 제작 및 특성평가 기술개발
자료유형  
 연구보고서
 
00256971
최종처리일시  
20081013171045
KDC  
505.026-4ㅅ
청구기호  
505.026 임986S
저자명  
임재영
서명/저자  
SiGe/Si STRAINED LAYER 초격자 제작 및 특성평가 기술개발 / 임재영 ; 한국표준과학연구원
발행사항  
서울 : 과학기술처, 1993
형태사항  
67p : 삽도 ; 27 cm
총서명  
제1차년도 연차보고서
키워드  
SiGe/Si STRAINED LAYER 초격자 제작 특성평가 기술개발
전자적 위치 및 접속  
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