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표면확산에 의한 고온초전도 후·박막의 개발 및 응용, 제3차년도
표면확산에 의한 고온초전도 후·박막의 개발 및 응용, 제3차년도 / 최상삼 ; 한국과학기술연구...
표면확산에 의한 고온초전도 후·박막의 개발 및 응용, 제3차년도
자료유형  
 연구보고서
 
00256664
최종처리일시  
20081010141109
KDC  
505.026-4ㅅ
청구기호  
505.026 최456ㅍ
저자명  
최상삼
서명/저자  
표면확산에 의한 고온초전도 후·박막의 개발 및 응용, 제3차년도 / 최상삼 ; 한국과학기술연구원
발행사항  
서울 : 과학기술부, 1993
형태사항  
p102 : 삽도 ; 27 cm
키워드  
고온초전도 표면확산
전자적 위치 및 접속  
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