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방전가공기 : 초고속 고정밀 EDM의 핵심기술 개발동향
방전가공기 : 초고속 고정밀 EDM의 핵심기술 개발동향
- 자료유형
- 단행본
- 00021050
- 최종처리일시
- 20080716101837
- 청구기호
- 41G 04-069
- 서명/저자
- 방전가공기 : 초고속 고정밀 EDM의 핵심기술 개발동향 / 정의섭 ; 김강회 ; 여운동
- 발행사항
- 서울 : 한국과학기술정보연구원, 2004
- 형태사항
- 47 p ; 21 cm
- 총서명
- 2004년 차세대 유망아이템분석 ; BA 294
- 기타저자
- 정의섭
- 기타저자
- 김강회
- 기타저자
- 여운동
- 기타서명
- 초고속 고정밀 EDM의 핵심기술 개발동향